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納米混懸劑研磨機,納米混懸劑研磨設(shè)備
詳細信息| 詢價留言品牌:IKN 型號:CMSD3000 工作方式:顆粒研磨機 類型:轉(zhuǎn)軸式研磨機 適用物料:納米混懸劑 應(yīng)用領(lǐng)域:醫(yī)藥 加工批量:1000 驅(qū)動功率:11 kw 研磨籃容量:200 L 介質(zhì)尺寸:100 mm 行程:10 mm 外形尺寸:1-1-1 m 重量:45 材質(zhì):316 外形尺寸:1-1-1 m
- 研磨得到的細顆粒被直接融合到懸浮液中,因而從開始就避免了灰塵的形成。
- 與干磨系統(tǒng)不同,被研磨的物質(zhì)保持在系統(tǒng)內(nèi),從而大幅減少了損失。因此,濕磨非常適合有機化學(xué)品,尤其是優(yōu)質(zhì)物質(zhì),或者有毒物質(zhì)的研磨。
- 相對干磨過程而言,濕磨的產(chǎn)品進料和計量較容易。
納米混懸研磨機,納米混懸劑研磨設(shè)備納米混懸劑是“純的”藥物納米粒子的膠態(tài)分散體系。與傳統(tǒng)意義上的基質(zhì)骨架型納米體系不同,納米混懸劑無需載體材料,它是通過表面活性劑的穩(wěn)定作用,將納米尺度的藥物粒子分散在水中形成的穩(wěn)定體系。
由于納米混懸劑的特性,其在各種給藥途徑中都體現(xiàn)出獨特的優(yōu)勢(表1):如處方簡單、制備快速、有利于降低活性化合物的篩選成本、提高藥物溶出度和生物利用度、摒除附加成分造成的刺激性和毒副作用以及較低的給藥體積等。
表1 藥物納米混懸劑的特點
納米混懸劑的制備主要有兩個方面,即處方篩選和工藝優(yōu)化。處方篩選主要是選擇表面活性劑的種類及其用量,以提高產(chǎn)品的長期穩(wěn)定性;工藝優(yōu)化是通過調(diào)整生產(chǎn)工藝如高壓均質(zhì)機的壓力和循環(huán)次數(shù)等參數(shù),獲得理想的粒徑分布。
表面活性劑的篩選
為了制備穩(wěn)定的納米混懸劑,避免納米粒子的凝聚和增大,必須篩選恰當(dāng)?shù)谋砻婊钚詣。一般可選擇離子型和非離子型表面活性劑,離子型表面活性劑可使納米粒子間產(chǎn)生靜電排斥;非離子聚合物則使納米粒子間產(chǎn)生立體排斥。研究顯示,合用兩種類型的表面活性劑可以使制劑具有更好的長期穩(wěn)定性。
采用直接均質(zhì)法制備納米混懸劑時,表面活性劑的種類和用量僅影響產(chǎn)品的長期穩(wěn)定性,并不影響產(chǎn)品的粒徑。MUller等采用直接均質(zhì)法制備布帕伐醌納米混懸劑,處方中加入適量泊洛沙姆(poloxamer)188和聚乙烯醇(PVA),3個月后藥物粒徑?jīng)]有顯著變化。但是當(dāng)藥物的含量高達10%時,6個月后藥物存在再分散難的問題;處方中如加入水凝膠或者將產(chǎn)品進行冷凍干燥,所得產(chǎn)品穩(wěn)定性可保持在,年以上。
采用微量沉淀法或者乳化均質(zhì)法制備納米混懸劑時,表面活性劑的種類和用量可影響晶體的形成,選擇不同的表面活性劑及其配比可以獲得不同粒徑分布的產(chǎn)品。Kocbek等采用乳化均質(zhì)法制備布洛芬納米混懸劑,處方中含有0.25%吐溫-80時產(chǎn)品粒徑為 158.1nm,含有0.5十二烷基硫酸鈉(SDS)時產(chǎn)品粒徑為263.2nm,選用poloxamer188、PVA或者聯(lián)合使用多種表面活性劑作為穩(wěn)定劑時,產(chǎn)品的粒徑都有所差異。
制備工藝
制備納米混懸劑的方法主要有碾磨法、超聲法和高壓均質(zhì)法。前兩種制備方法都有碾磨介質(zhì)或者金屬殘留,而高壓均質(zhì)法的金屬殘留量低,并且易于工業(yè)化生產(chǎn)。
直接均質(zhì)法(direct homogenization)
直接均質(zhì)法是利用高壓均質(zhì)機造成的空化和氣穴效應(yīng),將微粉化的藥物顆粒進一步粉碎為納米尺度的粒子,同時降低藥物粒徑的多分散性(PI)。采用直接均質(zhì)法可避免有機溶劑的加入,適用于既難溶于水也難溶于油的藥物,而且工藝的重現(xiàn)性較好。研究顯示,產(chǎn)品的粒徑是由藥物本身的硬度、高壓均質(zhì)的壓力以及循環(huán)次數(shù)決定的。通過調(diào)整高壓均質(zhì)機的壓力和循環(huán)次數(shù)可以得到合適粒徑分布的產(chǎn)品。隨著循環(huán)壓力的增加,粒徑降低,***后可以達到一個恒定值,即為***佳粒徑;多分散性隨循環(huán)次數(shù)的增加而降低。但是高壓均質(zhì)機壓力的增大和藥物粒徑的減小并沒有線性關(guān)系,因為高壓均質(zhì)的過程是破壞藥物顆粒的不完美晶體,粒徑越小,藥物晶體越完美,破碎所需的能量也就越高。研究顯示1500bar的壓力便可以將藥物粉碎到較小的晶體,而壓力增加到4000bar時,并沒有得到更細小的晶體。
微量沉淀法(microprecipitation)
微量沉淀法是首先將藥物溶解在與水互溶的有機溶劑中,然后將藥液加入到水中,通過控制析晶條件來組建納米粒子的方法。其析晶過程涉及結(jié)晶核的初始建立和粒子的隨后生長兩相。制備穩(wěn)定的納米混懸劑需要成核速率高但生長速率低,兩者進行的速率取決于溫度、藥物的過飽和度和機械攪拌的速度。所以微量沉淀法需要篩選恰當(dāng)?shù)挠袡C溶劑及其比例,以及選擇適當(dāng)?shù)奈鼍囟群蛿嚢杷俣取?br /> 由于微量沉淀法是將藥物從溶解狀態(tài)轉(zhuǎn)化為混懸狀態(tài),因而消耗的機械力比直接均質(zhì)法小,適用于穩(wěn)定性較差的藥物。但是由于制備過程中使用了有機溶劑,可能會導(dǎo)致有機溶劑殘留的問題,并且可能在去除有機溶劑時造成藥物粒徑的變化。
乳化均質(zhì)法(lipid emulsions)
乳化均質(zhì)法是將藥物首先制備成O/W型納米乳,然后控制藥物在乳滴中析出制得納米混懸劑。首先將藥物溶解在一種與水不互溶的有機溶劑中(如乙酸乙酯、三乙酸甘油酯、氯仿等);然后將藥液加入到含有表面活性劑的水溶液中,使用高剪切攪拌器攪拌形成初乳,然后使用高壓均質(zhì)機將初乳進一步均化為納米乳,***后將納米乳加入到大量水中,使內(nèi)相有機溶劑向水相擴散,同時析出藥物納米顆粒。藥物析出的同時結(jié)合使用高壓均質(zhì)機可以得到更好的粒徑分布。利用此方法研制的紫杉醇白蛋白納米混懸劑(Abraxane)已在美國上市。
理化性質(zhì)評價
當(dāng)固體顆粒的粒徑小于1~2μm時,粒子的飽和溶解度受到粒徑大小的影響,即小粒子的溶解度大,而大粒子的溶解度小,這便導(dǎo)致小粒子逐漸溶解而大粒子逐漸變大,該現(xiàn)象稱為奧氏熟化現(xiàn)象(Ostwald ripening)。為了防止這種現(xiàn)象的發(fā)生,必須篩選適當(dāng)?shù)奶幏皆黾蛹{米混懸劑的物理穩(wěn)定性,同時優(yōu)化制備工藝保證***終產(chǎn)品具有較窄的粒徑分布。此外,為了研究藥物納米混懸劑的釋藥性能,還需要對藥物的晶型、釋藥速率等進行考察。
粒徑及其多分散性
研究顯示,除表面活性劑外,粒徑分布也是影響納米混懸劑穩(wěn)定性的重要因素,因此在研發(fā)納米混懸劑的過程中,決定處方是否成功首先要考察粒徑及其分布,并且進行加速試驗,考察溫度和機械力對粒徑及其分布的影響。
根據(jù)納米混懸劑的不同特征,多種技術(shù)可測定粒徑及其多分散性。質(zhì)子相關(guān)光譜(PCs)可以檢測3nm~ 3μm范圍內(nèi)的粒子,是常用檢測粒徑及其多分散性(PI<0.3具有較好的穩(wěn)定性)的儀器;激光衍射(LD)檢測速度快,可以檢測到較大的粒子或者聚集的納米粒子(檢測范圍為0.02~2000μm),其中99%的數(shù)據(jù)對大粒子敏感,在注射劑檢測中具有重要意義。此外,在制備注射用納米混懸劑時,也可以使用庫爾特計數(shù)法檢測大粒子。
非離子型表面活性劑與Zeta電位
對于納米混懸液,粒子之間的排斥作用也有利于膠態(tài)分散體的長期穩(wěn)定。如果單一的使用離子型表面活性劑,那么達到穩(wěn)定所需的***低Zeta電位約為±30mV; 但是聯(lián)合使用離子型和非離子型表面活性劑時,即使 Zeta電位低于臨界值,也具有良好的物理穩(wěn)定性,因為非離子型表面活性劑賦予粒子足夠的立體排斥作用,此時Zeta電位只要達到±20mV即可。
制劑晶型以及外觀研究
如果藥物存在多晶型,那么不同的晶型會影響藥物的釋藥速率和療效。目前通常采用差示掃描量熱法和 X線衍射測定藥物的晶型狀態(tài),另外也可以采用電鏡觀察納米混懸劑的形態(tài)。
在制備納米混懸劑時可以根據(jù)需要加入適當(dāng)?shù)囊志,控制核心藥物處于無定型狀態(tài)。一般是加入一個水溶性極低的物質(zhì)如Miglyol,它與藥物結(jié)合降低藥物顆粒表面的界面張力,同時在藥物表面形成致密界面,減少內(nèi)部藥物分子向水相的擴散,從而抑制奧氏熟化現(xiàn)象,穩(wěn)定內(nèi)部無定型的藥物粒子。
影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點
2 膠體磨磨頭頭的剪切速率 (越大,效果越好)
3 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)
4 物料在研磨腔體的停留時間,研磨粉碎時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)
5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)
線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
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是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出***終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
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