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碳納米管水性漿料研磨設備
| 產(chǎn)品型號： |
CMSD2000 |
| 品 牌： |
ikn |
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| 所 在 地： |
上海松江區(qū) |
| 更新日期： |
2024-12-26 |
| | 型號：CMSD2000 | | 品牌：ikn | | 工作方式：顆粒研磨機 | |
| | 適用物料：碳納米管 | | 應用領(lǐng)域：鋰電池 | | 加工批量：1000 | |
| | 驅(qū)動功率：22 kw | | 研磨籃容量：300 | | 介質(zhì)尺寸：1000 | |
| | 行程：1000 | | 外形尺寸：1X1X2 m | | 重量：400 kg | |
| | 驅(qū)動方式：電動 | | 作用對象：鋸刀 | | 材質(zhì)：316 | |
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研磨：利用剪切力（shear force）、摩擦力或沖擊力（impactforce）將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。
分散：納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住，以便達到顆粒完全被分離（separating）、潤濕（wetting）、分布（distributing）均勻及穩(wěn)定（stabilization）目的。
碳納米管
碳納米管是一種具有石墨結(jié)晶的管狀納米碳材料，分為單壁碳納米管（SWCNT）和多壁碳納米管（MWCNT）兩種，直徑在納米量級，具有很高的長徑比。單壁碳納米管由單層石墨卷成柱狀無縫管而形成，是結(jié)構(gòu)完美的單分子材料。多壁碳納米管可看作由多個不同直徑的單壁碳納米管同軸套構(gòu)而成。單壁碳納米管根據(jù)六邊環(huán)螺旋方向螺旋角的不同，可以是金屬型碳納米管也可以是半導體型碳納米管。由于碳納米管具有優(yōu)良的電學和力學性能，被認為是復合材料的理想添加相。碳納米管作為加強相和導電相，在納米復合材料領(lǐng)域有著巨大的應用潛力 。
一、碳納米管分散技術(shù)三要素
二、分散劑用量推薦
三、碳納米管水分散劑（TNWDIS）概述
四、超聲波分散設備使用建議及分散實例
五、研磨分散設備使用建議
碳納米管分散技術(shù)三要素：分散介質(zhì)、分散劑和分散設備
1、分散介質(zhì)
（1）根據(jù)粘度不同，分散介質(zhì)分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質(zhì)中，如水和有機溶劑，碳納米管易于分散。中粘度介質(zhì)如液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠等，高粘度介質(zhì)如熔融態(tài)的塑料
（2）本PPT文件介紹的碳納米管分散技術(shù)，針對中、低粘度分散介質(zhì)
2、分散劑
（1）分散劑的選擇，與分散介質(zhì)的結(jié)構(gòu)、極性、溶度參數(shù)等密切相關(guān)
（2）分散劑的用量，與碳納米管比表面積和共價鍵修飾的功能基團有關(guān)
（3）水性介質(zhì)中，推薦使用TNWDIS。強極性有機溶劑中，如醇、DMF、NMP， 推薦使用TNADIS。中等極性有機溶劑如酯類、液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠，推薦使用TNEDIS
3、分散設備
（1）超聲波分散設備：非常適合實驗室規(guī)模、低粘度介質(zhì)分散碳納米管，用于中、高粘度介質(zhì)時會受到限制
（2）研磨分散設備：適合大規(guī)模地分散碳納米管、中粘度介質(zhì)分散碳納米管
（3）采用“先研磨分散、后超聲波分散”組合方法，可以高效、穩(wěn)定地分散碳納米管
分散劑用量推薦
碳納米管水性漿料研磨設備
在做納米粉體分散或研磨時，因為粉體尺度由大變小的過程中，范德華力及布朗運動現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當?shù)难心C來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動影響，是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。
研磨機 和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出***終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應用。
CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
IKN石墨烯研磨設備采用德國XX的高速研磨分散技術(shù)，通過超高
轉(zhuǎn)速（***高可達14000rpm）帶動超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子（通常配CM+8SF，定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間）使石墨烯漿料在設備的高線速度下形成湍流，在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì)，從而得出超細的顆粒（當然也需要合適的分散劑做助劑）。綜合以上幾點可以得出理想的導電石墨烯漿料。
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碳納米管水性漿料研磨設備
