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德國IKN分散光催化劑納米研磨機(jī)分解技術(shù)CMSD2000
詳細(xì)信息型號:CMSD2000 品牌:德國IKN 工作方式:高速萬能研磨機(jī) 適用物料:流體漿料 應(yīng)用領(lǐng)域:化工新能源 加工批量:100 驅(qū)動功率:11 kw 研磨籃容量:1 介質(zhì)尺寸:12 行程:1 外形尺寸:1 m 重量:260 kg 驅(qū)動方式:電動 作用對象:鋸刀 重量:260 kg 分散光催化劑納米研磨機(jī)分解技術(shù)是通過將納米級二氧化鈦材料與超大比表面積及輕質(zhì)的炭基材,經(jīng)特殊工藝燒結(jié)制備而成,并完成了該材料的量產(chǎn)化,從而徹底解決了傳統(tǒng)催化技術(shù)效率低下的問題。
納米光催化劑是污染物的克星,其作用機(jī)理簡單來說(如下圖所示)就是:納米光催化劑在特定波長的光的照射下受激生成"電子一空穴"對(一種高能粒子),這種"電子一空穴"對和周圍的水、氧氣發(fā)生作用后,就具有了極強(qiáng)的氧化-還原能力,能將空氣中甲醛、苯等污染物直接分解成無害無味的物質(zhì),以及破壞細(xì)菌的細(xì)胞壁,殺滅細(xì)菌并分解其絲網(wǎng)菌體,從而達(dá)到了消除空氣污染的目的。 具體來說在光照下,如果光子的能量大于半導(dǎo)體禁帶寬度,其價(jià)帶上的電子(e-)就會被激發(fā)到導(dǎo)帶上,同時(shí)在價(jià)帶上產(chǎn)生空穴(h+)。光生空穴有很強(qiáng)的氧化能力,光生電子具有很強(qiáng)的還原能力,它們可以遷移到半導(dǎo)體表面的不同位置,與表面吸附的污染物發(fā)生氧化還原反應(yīng)。
IKN高速分散機(jī)采用變頻調(diào)速,各種規(guī)格、運(yùn)轉(zhuǎn)穩(wěn)定有力,適合各種粘度;液壓、機(jī)械兩種升降形式,升降旋轉(zhuǎn)自如,適應(yīng)各種位置;普通及防爆配置,安全可靠,操作維護(hù)簡單;生產(chǎn)連續(xù)性強(qiáng),對物料可進(jìn)行快速分散和溶解,分散效果好,生產(chǎn)效率高,運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),安裝簡便。針對不同物料的粘度及處理量有不同的功率及型號。
IKN分散機(jī)采取直立式設(shè)計(jì),由1-3個(gè)工作腔組成,在馬達(dá)的高速驅(qū)動下,物料在轉(zhuǎn)子定子之間狹窄間隙中高速運(yùn)動,形成紊流,物料受到更強(qiáng)液力剪切、離心擠壓、高速切割、撞擊和研磨等綜合作用,從而達(dá)到分散、乳化、破碎的效果。被加工的物料本身和物理性質(zhì)和工作腔的數(shù)量以及控制物料在工作腔中停留的時(shí)間決定物料粒徑的分布范圍及均化、細(xì)化的效果和產(chǎn)量大小。
分散機(jī)的優(yōu)勢:
結(jié)合優(yōu)良的研磨效果的高吞吐量
定制不同的乳化刀頭,實(shí)現(xiàn)多種分散乳化剪切速率
為減少顆粒大小的控制,可無限調(diào)整定子/轉(zhuǎn)子之間的間隙設(shè)置
適合于粘度高達(dá)50,000 mPas的各種粘度范圍的物料
能在高達(dá)16 bar的壓力下操作
容易擴(kuò)大規(guī)模生產(chǎn),從實(shí)驗(yàn)室機(jī)器開發(fā)到工業(yè)生產(chǎn)機(jī)器
所有接觸液體的部件為316L或316Ti不銹鋼
具有耐磨材料的高性能機(jī)械密封密封
高質(zhì)量的表面處理,便于清洗
可根據(jù)要求提供其他材料和表面處理
機(jī)器可自動排水, 具有CIP和SIP功能
噪音低
根據(jù)符合EHEDG(歐洲衛(wèi)生工程設(shè)計(jì)集團(tuán))準(zhǔn)則制造
符合3A衛(wèi)生和認(rèn)證
根據(jù)需要提供制藥
根據(jù)提供的ATEX 95指導(dǎo)方針執(zhí)行防爆
從設(shè)備角度來分析,影響分散效果因素有以下幾點(diǎn):
1.分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)
2.分散頭的剪切速率,(越大效果越好)
3.分散頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好)
4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、分散時(shí)間(可以看作同等電機(jī),流量越小效果越好)
5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)
線速度的計(jì)算:
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的
分散是至少兩種不相容液體構(gòu)成熱力學(xué)不穩(wěn)定體系,一種液體以球形單位分散在另一種液體中,所以分散越穩(wěn)定分散效果越好。
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