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依肯IKN頭孢噻呋鈉復(fù)方制劑醫(yī)藥高速膠體磨CMSD2000
詳細信息| 詢價留言品牌:依肯IKN 型號:CMSD2000 工作方式:高速膠體磨 類型:圓盤式研磨機 適用物料:混懸液 應(yīng)用領(lǐng)域:醫(yī)藥 加工批量:100 驅(qū)動功率:4 kw 研磨籃容量:1 L 介質(zhì)尺寸:12 mm 行程:12 mm 外形尺寸:1-1-1 m 重量:45 行程:12 mm 外形尺寸:1-1-1 m 頭孢噻呋鈉復(fù)方制劑膠體磨,注射用頭孢噻呋鈉膠體磨,醫(yī)藥膠體磨,10000轉(zhuǎn)高速膠體磨 ,高速均質(zhì)機,高速粉液混合均質(zhì)泵,鹽酸頭孢噻呋混懸注射液 注射用頭孢噻呋鈉。
藥物制劑指難溶性固體藥物以微粒狀態(tài)分散于分散介質(zhì)中形成的非均勻分散的液體藥劑。分散相微粒的大小一般在0.5~10μm之間,小的微?蔀0.1μm,大的微?蛇_50μm或更大;鞈覄┑姆稚⒔橘|(zhì)多為水,也有用植物油。
該設(shè)備用于將粉末狀的藥物有效成分分散至注射用大豆油相中,形成均一、穩(wěn)定、粒度分布集中的混懸液,然后輸送至分裝緩沖罐,進行分裝。
目前國內(nèi)市場上大多數(shù)的膠體磨廠家生產(chǎn)出來的膠體磨轉(zhuǎn)速只能達到3000rpm左右,當然我所說的都是指工業(yè)化的膠體磨機。對于實驗室小型膠體磨機,由于電機(220V),軸等因素轉(zhuǎn)速可達20000rpm左右,但是這種實驗室膠體磨無法對應(yīng)放大到生產(chǎn)中,所以在這里不做重點講訴。
國內(nèi)膠體磨的結(jié)構(gòu)大都都是直連電機,膠體磨機的主軸和電機直連,電機就決定了主軸的轉(zhuǎn)速。而進口膠體磨采用分體式結(jié)構(gòu),通過皮帶進行變速,國產(chǎn)設(shè)備由于結(jié)構(gòu)的設(shè)計缺失、機械密封技術(shù)的不足的原因,以及改進后成本大幅度的提高問題,一直無法實現(xiàn)高速膠體磨機的自主研發(fā)和生產(chǎn)。
鹽酸頭孢噻呋超高速分散膠體磨通過皮帶傳送,可實現(xiàn)2到3倍的加速,同時立式直立的轉(zhuǎn)軸,運轉(zhuǎn)穩(wěn)定性大大提高,同時轉(zhuǎn)子動平衡性得到提高,間隙也允許縮小而不產(chǎn)生摩擦。因此立式濕法粉碎機有zui好的乳化分散粉碎效果。根據(jù)其定轉(zhuǎn)子剪切的原理,還可以實現(xiàn)固體物料在液體介質(zhì)中的粉碎,超細物料的均勻分散,以及加速大分子物質(zhì)的溶解。經(jīng)過特別設(shè)計的高剪切膠體磨也可以成為反應(yīng)發(fā)生的場所,比如兩種液體物料反應(yīng)生成固體顆粒,通過分別通入腔體,兩種物料接觸時被剪切成微滴,均勻混合后反應(yīng)生成的粒子大小均勻,并且粒徑很小。
上海依肯研磨分散膠體磨設(shè)備特點:
1、耐有機溶劑、耐腐蝕;
2、材質(zhì)為316L不銹鋼;
3、設(shè)備定轉(zhuǎn)子(研磨分散工作腔體)間間隙可調(diào),粒度可控;
4、設(shè)備整體機身夾套設(shè)計,高轉(zhuǎn)速產(chǎn)生的熱量可以通過外接冷卻設(shè)備進行控溫;
5、主軸與電機分體設(shè)計,用戶可根據(jù)需要選擇適當?shù)霓D(zhuǎn)速;
6、設(shè)備為變頻調(diào)速,可通過變頻控制柜合理準確的調(diào)節(jié)設(shè)備轉(zhuǎn)速;
7、可靈活設(shè)計生產(chǎn)過程中的特殊需求(設(shè)備表面光潔度、真空、防爆、設(shè)備材質(zhì));8、從實驗室設(shè)備平穩(wěn)過渡到中試型實驗以及后期的工業(yè)化放大實驗,無需重新調(diào)整實驗數(shù)據(jù),ji大程度降低了風險
IKN膠體磨與國nei膠體磨的性能比較:
一、轉(zhuǎn)速和剪切速率:
IKN膠體磨,可選擇德國機械密封,轉(zhuǎn)速可以達到15000轉(zhuǎn)
F=23/0.7X1000=32857 S-1
F=40/0.7/X1000=57142 S-1
國nei膠體磨,可選擇機械密封一般3000轉(zhuǎn),大約在14293-215440 S-1
通過轉(zhuǎn)速比較可知,這是乳粉碎研磨的zhong要因素,相當于前者是后者的2-3倍
二、膠體磨頭和間距:
IKN膠體磨,可以選擇六種不同的模塊頭,實現(xiàn)多種功能,如三級乳化模塊,超高速模塊,CM膠體模塊,CMO膠體模塊,批次粉液液混合模塊,連續(xù)粉液混合模塊。
間距可調(diào),可實現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工
國nei膠體磨,只有一種模塊頭,粒徑細度有限,100微米以下較困難,重復(fù)性差
三、機械密封:
IKN膠體磨,雙機械密封,易于清洗,將泄漏降至zui低,可24小時不停運轉(zhuǎn)
國nei膠體磨,單機械密封或軸封,泄漏故障率高,產(chǎn)品泄漏進入馬達,造成馬達燒毀
四、清洗:
IKN膠體磨,立式,皮帶驅(qū)動,易于維護,可有效保護馬達及齒輪箱,防止損壞,符合流體流動原理,具有CIP/SIP在線清洗,在線殺菌功能,無需拆卸,機器設(shè)計無死角,立式結(jié)構(gòu)符合流體原理,清洗更簡便
國nei膠體磨,臥式或立式(馬達一體式),軸承部分受力較大,易于損壞,維護保養(yǎng)復(fù)雜,
通常情況,需要拆卸機器進行清洗
膠體磨內(nèi)部結(jié)構(gòu)及分析:
粉碎室設(shè)有三道磨碎區(qū),一級為粗磨碎區(qū),二級為細磨碎區(qū),三層為超微磨碎區(qū),通過調(diào)整定、轉(zhuǎn)子的間隙,能有效地達到所需的超微粉碎效果(也可循環(huán)加工)。混合區(qū):首先將物料通過混合攪拌裝置進行高速混合,在混合過程中用螺旋混合漿葉使物料在高速運轉(zhuǎn)中的到充分混合均質(zhì)后送料給下道工藝;
剪切區(qū):物料進入剪切區(qū)后,由于上道工序只把物料進行混合,沒有把物料進行大顆粒破碎,這個問題由高剪切機來完成,該剪切區(qū)由三層數(shù)百條刀槽組成,將大的粘團結(jié)塊等易碎顆粒進行剪切破碎。
研磨區(qū):研磨區(qū)是由凹凸膠體磨組成,轉(zhuǎn)定子切有許多中齒及細齒組成,將已剪切的小顆粒進行深化研磨,研磨時可調(diào)距離為0.01~3mm;
1、 有較強的混合、粉碎、研磨、輸送功能;
2、 可使用較硬的各類易碎顆粒;
3、 可同過調(diào)節(jié)定轉(zhuǎn)子間隙進而調(diào)節(jié)循環(huán)研磨所需時間;
4、 定、轉(zhuǎn)子間歇可以調(diào)節(jié),調(diào)節(jié)距離為0.01~3mm,可降低啟動負荷,從而減少能耗
5、 轉(zhuǎn)、定子材料可選用2cr13 9cr18 2205進行氮化處理貨滲碳化鎢處理。
膠體磨在設(shè)計上的突出優(yōu)點在于:
1、轉(zhuǎn)速14000rpm,相較其它廠家2900轉(zhuǎn)左右高出約三倍:
2、磨頭結(jié)構(gòu)更精密并有獨特設(shè)計,使之研磨作用力更大,效果更好。
3、德國進口雙端面機械密封擁有獨特結(jié)構(gòu)和特殊材質(zhì)保證高速運轉(zhuǎn)和長使用壽命。
4、CM2000/4中試型研磨機與大型工業(yè)管線式量產(chǎn)機型配置基本相同。各種工作頭的種類及相應(yīng)線速度相同,中試過程中的工藝參數(shù)在工業(yè)化后之后不用重新調(diào)整,從而將機器型號升級到工業(yè)化的過程中的風險降到更低。
IKN膠體磨選型表:
型號
流量
輸出轉(zhuǎn)速
線速度
馬達功率
出/入口鏈接
L/H
rpm
m/s
kw
CM2000/4
700
9000
23
2.2
DN25/DN15
CM2000/5
3000
6000
23
7.5
DN40/DN32
CM2000/10
8000
4200
23
1.5
DN50/DN50
CM2000/20
20000
2850
23
37
DN80/DN65
CM2000/30
40000
1420
23
55
DN150/DN125
CM2000/50
80000
1100
23
110
DN200/DN150
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和***終產(chǎn)品的要求。
3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數(shù),以便選型和定制。
4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動,定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實物為準。
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