超微細無機新材料氣相二氧化硅分散難點，沉淀法二氧化硅分散混合機，分散設備工作原理，二氧化硅粉液混合機                 
  【二氧化硅的重要用途】：   二氧化硅的用途很廣。自然界里比較稀少的水晶可用以電子工業(yè)電子的重要部件、光學儀器和工藝品。   氣相法二氧化硅是極其重要的高科技超微細無機新材料之一，由于其粒徑很小，因此比表面積大，表面吸附力強，表面能大，化學純度高、分散性能好、熱阻、電阻等方面具有特異的性能，以其優(yōu)越的穩(wěn)定性、補強性、增稠性和觸變性，在眾多學科及領域內獨具特性，有著不可取代的作用。氣相二氧化硅質量小,很輕,極易飛揚,廣泛應用于化妝品等行業(yè)。通常用作補強劑,穩(wěn)定劑或粘度調節(jié)劑。 

 二氧化硅的分散難點 

二氧化硅加工的難點在于濕化并達到相應的粘度。而且和水（溶劑）混合后容易團聚，IKN在這個行業(yè)擁有豐富的經驗,能夠滿足不同客戶的要求。

 IKN混合設備在二氧化硅的分散中的優(yōu)勢

①消除粉塵。IKN為氣相二氧化硅與水的混合,設計多種解決方案。粉體直接從包裝袋中吸入,或者可以跟您的工程師一起特殊定制工藝。

②改善容器清潔問題。使用IKN在線粉體液體混合系統(tǒng),能夠消除容器壁的物料殘留,改善清潔,并減少原材料浪費。

③化成分功能。很多公司在濕化二氧化硅工藝上都遇到困難,通常需要足夠的剪切力來達到材料活性和特定粘度,只有IKN可以提供這種類型的剪切分散機,為二氧化硅濕化混合提供足夠的剪切力。

氣相二氧化硅分散難點，沉淀法二氧化硅分散混合機，分散設備工作原理，二氧化硅粉液混合機

面對粉末難易團聚，難以分散，粉塵飛揚的粉體處理工藝中***常見的問題，IKN依肯研發(fā)了PLD2000系列產品，專門用于解決粉液在線混合分散的問題

PLD2000設備的特殊結構和工作原理：裝備了一個特別設計的轉子，一個入口進液體，一個入口進粉體，使兩相在瞬間接觸時就能及時的將粉體打散。機器可以循環(huán)操作直到所有粉末加入完畢，然后密封加料入口，在腔體中繼續(xù)分散混合。根據產品要求，粉末的性狀，添加量可達80%。另外，如果粘度過高，也可在入口前加一臺泵。

IKN在線粉液混合機可以快速地將不同種類的粉末和顆粒不結塊地進行潤濕和分散在液體中。

IKN  PLD 2000的優(yōu)點：

1高效的吸入系統(tǒng)，吞吐量大

2簡單而堅穩(wěn)的設計

3自動調節(jié)固體和液體的供應

4無需額外的配料裝置

5封閉系統(tǒng)，防止灰塵和溶劑的排放

6潤濕顆粒，從而防止結塊的形成

7拆包卸料，不損失原料

8大大縮短生產時間

9通過更有效地碎裂原料，減少原料的添加

10緊湊的生產方法

11 開發(fā)了易于升級的過程，將實驗室機器PLD用于生產機器PLD

12 機器可自動排水，具有CIP 清洗 和SIP功能

13 所有接觸液體的部件為316L或316 Ti不銹鋼

14完全自動化

15符合3A衛(wèi)生和認證

16根據需要提供醫(yī)藥級別設備

IKN工程師和應用專家可協您解決關于機器PLD安裝到您現有的工藝系統(tǒng)中或關于拓寬整套新型生產設備供應范圍的問題。

氣相二氧化硅分散難點，沉淀法二氧化硅分散混合機，分散設備工作原理，二氧化硅粉液混合機