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    IKN(依肯)硅碳負極材料漿料均勻制漿1000轉高速分散機 18018542795

    產(chǎn)品型號: 18018542795
    品  牌: IKN(依肯)
    • ≧1 臺
      ¥398000.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-12-16
    詳細信息
     品牌:IKN(依肯)  類型:剪切分散機  物料類型:固-液  
     適用物料:化學品  應用領域:化工  型號:18018542795  
     速度類別:五級變速  調速范圍:15000 r/min 分散輪直徑:115 mm 
     升降行程:10 mm 電機功率:30 Kw 變速方式:變頻變速  
     罐容量:1000 L 外形尺寸:1-1-1 mm 整機重量:200 kg 

    硅碳負極材料漿料均勻制漿1000轉高速分散機 ,德國硅碳負極漿料1000轉高速分散機,硅碳負極漿料分散機,  是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的gao速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被you xiao地乳化、分散和粉碎,da到物料超細粉碎及乳化的效果。 

    由于硅的比容量是目前所有已知的負極材料中高的,達到了4200mAh/g。但是由于純硅在鋰離子電池中充放電過程中所形成的硅鋰合金會讓負極材料產(chǎn)生的體積膨脹,膨脹率達到300%,從而使負極材料坍塌粉化,破壞了電池的安全性與循環(huán)性能,而硅碳復合可以有效的降低負極材料的體積效應。

     科研人員通過對硅基材料的結構改性做了大量的研究:如納米硅粉,硅納米管,納米薄膜及納米多孔硅的研發(fā),來降低硅的體積膨脹。

            純硅的首充比容量較高,一般在3000mAh/g以上,但是其在循環(huán)5圈以后比容量便會下降至0。Cho等通過化學氣相沉積法以金屬模板作為合成基片,通過催化劑(單質金),做基片上形成了大量的硅納米線,

            2.硅碳復合材料

            2.1 Si@C負極材料

            將納米硅粉和碳材料進行混合后,在納米硅粉表面形成碳膜形成反應前驅體后,再將前驅體進行高溫熱解后,將硅顆粒表面的物質碳化后得到Si@C材料,目前碳源主要有:葡萄糖,聚乙二醇,檸檬酸和有機樹脂等。

         

            2.2 Si/G材料

            由于石墨烯材料的層狀結構,使其能夠將鋰離子嵌入至層間而不是以化合物的形式出現(xiàn),所以其在嵌鋰過程能夠表現(xiàn)出較大的比容量。Liu等將微米硅和石墨烯機械混合后得到的Si/G材料,其結構如圖2所示,由于其在充放電過程中所形成的SEI膜能夠抑制鋰離子不可逆的損失,其首圈效率能夠達到85%。在0.1C倍率下循環(huán)100圈后,其容量保持為510mAh/g。

           

            2.3 其他類型復合材料

            將金屬及其氧化物和硅碳負極材料參雜后,通過不同材料在形成鋰合金過程中協(xié)同作用,并取得了良好的電化學性能。

           

    結構有如圖1所示的四種類型:(a)負載的復合材料;(b)包裹的復合材料;(c)內(nèi)嵌的復合材料;(d)基于層狀復合材料。負載的復合材料是在材料表面引入第二組分并在其表面進行外延伸展得到的。包裹的復合材料是用石墨烯片將第二組分包裹得到的,可以更有效地防止第二組分的聚合

     

     

    負載的復合材料:表面引入第二組分并在其表面進行外延伸展得到的復合材料。包裹的復合材料:用石墨烯片將第二組分包裹得到的復合材料,可以更有效地防止第二組分的聚合。內(nèi)嵌的復合材料:將石墨烯納米片作為填充物充分分散在第二組分的基體相中得到的復合材料。其中,基體相可以是納米材料,也可以是塊體材料組成;谑┑膶訝顝秃喜牧希簩⒌诙M分和石墨烯片交替堆積而成,該結構可以使石墨烯與第二組分的接觸面積大化,并有利于電子的產(chǎn)生、傳輸和分離。

     

     

    磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。 

    級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

    第er級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,te別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征dou能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出#終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

    CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

     

    研磨分散機

    流量*

    輸出

    線速度

    功率

    入口/出口連接

    類型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMSD 2000/4

    300

    14,000

    41

    4

    DN25/DN15

    CMSD 2000/5

    1000

    10,500

    41

    11

    DN40/DN32

    CMSD 2000/10

    4000

    7,200

    41

    30

    DN80/DN65

    CMSD 2000/20

    10000

    4,900

    41

    45

    DN80/DN65

    CMSD 2000/30

    20000

    2,850

    41

    90

    DN150/DN125

    CMSD2000/50

    60000

    1,100

    41

    160

    DN200/DN150

    *流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節(jié)到#大允許量的10%。

    1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數(shù)據(jù)。

     

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