指難溶性固體藥物以微粒狀態(tài)分散于分散介質(zhì)中形成的非均勻分散的液體藥劑。分散相微粒的大小一般在0.5～10μm之間，小的微�？蔀�0.1μm，大的微�？蛇_50μm或更大�；鞈覄┑姆稚⒔橘|(zhì)多為水，也有用植物油。
 

該設(shè)備用于將粉末狀的藥物有效成分分散至注射用大豆油相中，形成均一、穩(wěn)定、粒度分布集中的混懸液，然后輸送至分裝緩沖罐，進行分裝。流程見下圖。

5%鹽酸頭孢噻呋注射液膠體磨，10％長效鹽酸頭孢噻呋注射液膠體磨，注射用頭孢噻呋鈉膠體磨，醫(yī)藥膠體磨，10000轉(zhuǎn)高速膠體磨 ，頭孢噻呋晶體注射液膠體磨，或者高速均質(zhì)機，高速粉液混合均質(zhì)泵
可以采用CMS2000    ERS2000 或者CMSD2000
 

目前國內(nèi)市場上大多數(shù)的膠體磨廠家生產(chǎn)出來的膠體磨轉(zhuǎn)速只能達到3000rpm左右，當(dāng)然我所說的都是指工業(yè)化的膠體磨機。對于實驗室小型膠體磨機，由于電機（220V），軸等因素轉(zhuǎn)速可達30000rpm左右，但是這種實驗室膠體磨無法對應(yīng)放大到生產(chǎn)中，所以在這里不做重點講訴。
                                      

國內(nèi)膠體磨的結(jié)構(gòu)大都都是直連電機，膠體磨機的主軸和電機直連，電機就決定了主軸的轉(zhuǎn)速。而進口膠體磨采用分體式結(jié)構(gòu)，通過皮帶進行變速，國產(chǎn)設(shè)備由于結(jié)構(gòu)的設(shè)計缺失、機械密封技術(shù)的不足的原因，以及改進后成本大幅度的提高問題，一直無法實現(xiàn)高速膠體磨機的自主研發(fā)和生產(chǎn)。

當(dāng)用我們的設(shè)備好處是什么？效果好（研磨效果、均質(zhì)效果、分散效果、乳化效果……），速度快，效率高。每一臺設(shè)備都具有多功能改裝，根據(jù)不同的要求更換不同的模塊。還有什么？？？那就是能耗低，據(jù)用過依肯的設(shè)備客戶反應(yīng)，就電費就能省下不少。如何去選擇一臺合適的設(shè)備，一定會做一個明智的選擇！

在線式高速膠體磨優(yōu)點

1  CMS2000系列作為一個用于混合分散粉碎工藝的設(shè)備,其具有連續(xù)式性操作,因此也被稱作連續(xù)式超高速粉碎機,能夠更好滿足大批量連續(xù)化生產(chǎn)作業(yè)要求.

1分散乳化粉碎效率高:批次乳化機在進行乳化前往往需要預(yù)攪拌,在其基礎(chǔ)上才能實現(xiàn)較好的分散乳化混合效果.因此所需要時間更多,產(chǎn)量更小.適用于不連續(xù)生產(chǎn)或者產(chǎn)量較小的生產(chǎn).而連續(xù)式膠體磨機可以直接進行投料,更短時間能夠?qū)崿F(xiàn)混合分散的顆粒經(jīng)的要求.產(chǎn)量大效率高,適用于連續(xù)式生產(chǎn),產(chǎn)量更大的情況.

2分散效粉碎果好：其他粉碎設(shè)備在罐體內(nèi)，物料與粉碎頭較松散，工作時依靠強大的吸力使物料進入分散頭中，不能實現(xiàn)足夠小的顆粒經(jīng)要求。而連續(xù)式乳化機由于乳化腔體內(nèi)部設(shè)計足夠小，膠體磨頭與物料緊密接觸，剪切充分，同時膠體磨腔體設(shè)計成多層轉(zhuǎn)定子咬合結(jié)構(gòu)，優(yōu)化粗齒結(jié)構(gòu)，可以滿足混合乳化粉碎的顆粒經(jīng)分布較窄，效率更高

3 技術(shù)功能指標(biāo)更高：CMS2000系列管線膠體磨機比較在相同的馬達情況下，轉(zhuǎn)速有明顯優(yōu)勢，CMS2000轉(zhuǎn)速可以達到14000RPM，可以在更短的惡時間內(nèi)處理更多符合要求的物料，能夠為大批量生產(chǎn)的企業(yè)實現(xiàn)生產(chǎn)過程的成本降低。
 

由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出#終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

設(shè)備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

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