影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)

2 膠體磨磨頭頭的剪切速率  （越大，效果越好）

3 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細(xì)齒，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）

4  物料在研磨腔體的停留時(shí)間，研磨粉碎時(shí)間（可以看作同等的電機(jī)，流量越小，效果越好）

5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）

線(xiàn)速度的計(jì)算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

剪切速率 (s-1) =           v  速率 (m/s)  
                            g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線(xiàn)速率

在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm 

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

納米研磨機(jī)|高速納米研磨機(jī)|高剪切納米研磨機(jī)|納米材料研磨機(jī)|納米改性研磨機(jī)|研磨機(jī)原理|納米研磨機(jī)價(jià)格|德國(guó)納米研磨機(jī)進(jìn)口納米研磨機(jī).

根據(jù)一些行業(yè)的特殊要求, IKN 在CM2000系列膠體磨的基礎(chǔ)上又開(kāi)發(fā)了一款CMS2000高速膠體磨，轉(zhuǎn)子的線(xiàn)速度可以達(dá)到40M/S。研磨分散效果更好，研磨粒徑分布更小。

       超高速膠體磨的細(xì)化作用一般來(lái)說(shuō)要強(qiáng)于均質(zhì)機(jī)，但它對(duì)物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)（如高粘度、大顆粒），所以在很多場(chǎng)合下，它用于高粘度的場(chǎng)合。在固態(tài)物質(zhì)較多時(shí)也常常使用膠體磨進(jìn)行細(xì)化。 

       CMS2000的線(xiàn)速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。

     三級(jí)錯(cuò)齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子，配合精密的定子腔。此款高速膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達(dá)到3倍以上,*小的轉(zhuǎn)速可以達(dá)到14000RPM。所以可以達(dá)到更好的分散濕磨效果。

設(shè)備等級(jí)：化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無(wú)菌級(jí)
電機(jī)形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件： PTC 熱保護(hù)、降噪型
超高速膠體磨材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti
超高速膠體磨選配：儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車(chē)
超高速膠體磨表面處理：拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
膠體磨選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器