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醫(yī)藥二氧化鈦研磨分散機(jī)

產(chǎn)品型號(hào)：

CMD2000

品牌：

IKN

≧1 臺(tái)
￥118900.00

所在地：

上海松江區(qū)

更新日期：

2024-12-16

詳細(xì)信息

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品牌：IKN	型號(hào)：CMD2000	工作方式：顆粒研磨機(jī)
類型：轉(zhuǎn)軸式研磨機(jī)	適用物料：乳化液，懸浮液	應(yīng)用領(lǐng)域：醫(yī)藥
加工批量：100	驅(qū)動(dòng)功率：2.2 kw	研磨籃容量：2 L
介質(zhì)尺寸：0.2 mm	行程：2000 mm	外形尺寸：500*230 m
重量：230	行程：2000 mm	外形尺寸：500*230 m

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二氧化鈦作為藥用白色顏料，具有優(yōu)異顏料性能有害雜質(zhì)的含量低，適合制造不透明膠囊、片劑薄膜包衣、霜?jiǎng)�、藥用包裝材料、藥用油墨，具有粒度均勻，分散性好的優(yōu)點(diǎn)，去粒子水和明膠中分散良好，無絮凝沉淀物。

藥物制劑中，可作為白色著色劑制備薄膜包衣混懸液，糖包衣和明膠膠囊劑，也可與其它著色劑混合使用，應(yīng)用于皮膚用制劑，也可取代淀粉用做藥物的賦型劑。
國(guó)內(nèi)研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)速通常只有3000轉(zhuǎn)，在分散時(shí)不能有效的解決團(tuán)聚問題，導(dǎo)致顆粒性狀不明顯。Ikn公司有著幾十年的技術(shù)沉淀，專門研發(fā)了14000轉(zhuǎn)的研磨分散機(jī)，使物料得到充分的分散。

高的轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是*重要的。醫(yī)藥二氧化鈦研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到40m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng)，乳液的粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度極高,無需其他輔助分散設(shè)備。

設(shè)備等級(jí)：化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無菌級(jí)
電機(jī)形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件： PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配：儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車
研磨分散機(jī)表面處理：拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍

研磨分散機(jī)選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

研磨分散機(jī)	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
CMD 2000/4	300	9,000	23	2.2	DN25/DN15
CMD 2000/5	1000	6,000	23	7.5	DN40/DN32
CMD 2000/10	200	4,200	23	22	DN80/DN65
CMD 2000/20	5000	2,850	23	37	DN80/DN65
CMD 2000/30	8000	1,420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	15000	1,100	23	110	DN200/DN150
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度，稠度和*終產(chǎn)品的要求。
3 如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準(zhǔn)確的參數(shù)，以便選型和定制。
4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動(dòng)，定制而不符，正確的參數(shù)以提供的實(shí)物為準(zhǔn)。
5 本系列機(jī)型具有短程送料能力，無自吸功能，須選用高位進(jìn)料；物料粘度或固含量高導(dǎo)致不能正常進(jìn)料和輸送時(shí)，須選用壓力或輸送泵進(jìn)料或送料，輸送泵的壓力和流量與被選機(jī)型相匹配。

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