碳納米管高剪切研磨分散機(jī)，碳納米管高剪切分散機(jī)，碳納米管高剪切研磨機(jī)，，IKN管線式高剪切研磨分散機(jī)處理碳納米管2-3遍后，溶液中的碳黑粒徑95%的在2-3μm之間，然后再根據(jù)使用需求再對物料進(jìn)行后續(xù)處理。

碳納米管作為一維納米材料，重量輕，六邊形結(jié)構(gòu)連接完美，具有許多異常的力學(xué)、電學(xué)和化學(xué)性能。近些年隨著碳納米管及納米材料研究的深入其廣闊的應(yīng)用前景也不斷地展現(xiàn)出來。

生產(chǎn)碳納米管的主要原料有炭黑、EMP溶液、PVP分散劑，按比例將炭黑加入EMP溶液中，使用攪拌機(jī)對物料進(jìn)行預(yù)分散，攪拌機(jī)邊攪拌邊加入PVP分散劑。然后將IKN管線式高剪切研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)速開到12000rpm，緩慢的加入預(yù)分散好的溶液，使物料在管線式高剪切研磨分散機(jī)中循環(huán)研磨分散2-3遍，將物料排出。經(jīng)多次試驗(yàn)驗(yàn)證，經(jīng)過IKN管線式高剪切研磨分散機(jī)處理2-3遍后，溶液中的碳黑粒徑95%的在2-3μm之間，然后再根據(jù)使用需求再對物料進(jìn)行后續(xù)處理。

 

在使用炭黑、EMP溶液、PVP分散劑配碳納米管溶液時，我們做了三個配比做實(shí)驗(yàn)：當(dāng)炭黑的含量比例加到5%時，在循環(huán)2-3遍后物料的粘稠物高達(dá)50萬cps，不利于炭黑在EMP溶液中的分散；當(dāng)碳黑含量的比例加到3%時，在循環(huán)2-3遍后物料的粘稠度達(dá)到10-20萬cps，可以繼續(xù)流動，分散效果達(dá)到要求；當(dāng)炭黑含量的比例加到2%時，在循環(huán)2-3遍后物料的粘稠度在10萬cps以內(nèi)，流動性更好，更有利于炭黑在EMP的分散。

 

碳納米管高剪切研磨分散機(jī)是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。磨頭下面的膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。

 

研磨分散機(jī)工作原理：研磨分散機(jī)是由電動機(jī)通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

 

研磨分散機(jī)的細(xì)化作用一般來說要強(qiáng)于均質(zhì)機(jī)，但它對物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場合。 

研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

 

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯�輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

 

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

 

設(shè)備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機(jī)形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件： PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機(jī)表面處理：拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

膠體磨	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
CMD 2000/4	300	9,000	23	2.2	DN25/DN15
CMD 2000/5	1000	6,000	23	7.5	DN40/DN32
CMD 2000/10	200	4,200	23	22	DN80/DN65
CMD 2000/20	5000	2,850	23	37	DN80/DN65
CMD 2000/30	8000	1,420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	15000	1,100	23	110	DN200/DN150
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到*大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度，稠度和*終產(chǎn)品的要求。

3 如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準(zhǔn)確的參數(shù)，以便選型和定制。

4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動，定制而不符，正確的參數(shù)以提供的實(shí)物為準(zhǔn)。

5 本系列機(jī)型具有短程送料能力，無自吸功能，須選用高位進(jìn)料；物料粘度或固含量高導(dǎo)致不能正常進(jìn)料和輸送時，須選用壓力或輸送泵進(jìn)料或送料，輸送泵的壓力和流量與被選機(jī)型相匹配。

如有疑問請致電IKN銷售工程師，IKN全體員工將竭誠為您服務(wù)！ IKN主網(wǎng)站：www.iknchina8.com  www.iknchina。。ｃｏｍ                  

碳納米管高剪切研磨分散機(jī)，碳納米管研磨分散機(jī)，碳納米管超高速分散機(jī)，高剪切研磨分散機(jī) 研磨分散機(jī)(專利 ZL201520918133.7)