二維材料研磨分散機(jī)，二維材料剝離設(shè)備，超高速研磨分散機(jī)，線速度66M/S分散機(jī)是是由電動(dòng)機(jī)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果

二維材料 二維材料是指電子僅可在兩個(gè)維度的非納米尺度（1-100nm）上自由運(yùn)動(dòng)（平面運(yùn)動(dòng)）的材料，如納米薄膜、超晶格、量子阱。二維材料是指電子僅可在兩個(gè)維度的非納米尺度（1-100nm）上自由運(yùn)動(dòng)（平面運(yùn)動(dòng)）的材料，如納米薄膜、超晶格、量子阱。
納米材料是指材料在某一維、二維或三維方向上的尺度達(dá)到納米尺度。納米材料可以分為零維材料、一維材料、二維材料、三維材料。
零維材料是指電子無法自由運(yùn)動(dòng)的材料，如量子點(diǎn)、納米顆粒與粉末。
一維材料是指電子僅在一個(gè)非納米尺度方向上自由運(yùn)動(dòng)（直線運(yùn)動(dòng)），如納米線性結(jié)材料、量子線，*具代表的是碳納米管（carbon nanotube）。
三維材料是指電子可以在三個(gè)非納米尺度上自由運(yùn)動(dòng)，如納米粉末高壓成型或控制金屬液體結(jié)晶而得到的納米晶粒結(jié)構(gòu)（納米結(jié)構(gòu)材料）。

石墨烯材料  氮化硼（BN）、二硫化鉬（MoS2）。*近在凝聚態(tài)物理領(lǐng)域有著廣泛的研究。
二維材料研磨分散機(jī)，二維材料剝離設(shè)備，超高速研磨分散機(jī)，線速度66M/S分散機(jī)

粉碎研磨分散的本質(zhì)是通過能量的輸入使不相溶的兩相或多相達(dá)到互相包裹，近似穩(wěn)定均一狀態(tài)的做功過程。即形成乳液或懸浮液的條件是，在某一能量水平上， 各種微滴顆粒集聚的速度與分散的速度達(dá)到動(dòng)態(tài)的平衡。
IKN膠體磨由電動(dòng)機(jī)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果
 
為了達(dá)到巨大的能量輸入，IKN采用提高定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速的方法。在電機(jī)固定三千轉(zhuǎn)的前提下，我們采用立式的結(jié)構(gòu)通過皮帶加速達(dá)到15000轉(zhuǎn)。這很容易做到，但重要的是其它的部件能否能在高轉(zhuǎn)速下保持穩(wěn)定——軸承的強(qiáng)度夠不夠?機(jī)械密封會(huì)不會(huì)因?yàn)楫a(chǎn)生大量的熱而損毀泄露？主軸會(huì)不會(huì)偏振的很厲害，定轉(zhuǎn)子是否會(huì)發(fā)生摩擦?這些是IKN的關(guān)注點(diǎn)，也應(yīng)該是廣大客戶在選型時(shí)應(yīng)該重視的幾個(gè)方面。
 
 
IKN研磨機(jī)與國(guó)內(nèi)研磨機(jī)比較：
轉(zhuǎn)速和剪切力：
國(guó)內(nèi)研磨機(jī)，3000/4700 RPM直聯(lián)電機(jī)的轉(zhuǎn)速?zèng)Q定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速
線速度：V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
作用力：F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
IKN研磨機(jī)，9000/14000RPM通過皮帶加速
線速度：V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
作用力：F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
這是研磨粉碎的重要因素，相當(dāng)于后者是前者的4-5倍
設(shè)備設(shè)計(jì)構(gòu)造：
國(guó)內(nèi)研磨機(jī)，臥室直聯(lián)結(jié)構(gòu)，運(yùn)行時(shí)間長(zhǎng)，容易造成軸的偏心，運(yùn)轉(zhuǎn)不正常，需要*的人員拆開內(nèi)部結(jié)構(gòu)更換。而且需要更換損害的乳化頭及軸
IKN研磨機(jī)，立式分體結(jié)構(gòu)，運(yùn)行時(shí)間長(zhǎng)，不易造成軸的偏心，容易更換，而且只要更換相應(yīng)的皮帶，一般的人員可以操作。
密封：
國(guó)內(nèi)研磨機(jī)，填料密封或骨架密封，單機(jī)械密封或軸封，泄漏故障率高，產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá)，造成馬達(dá)燒毀
IKN研磨機(jī)，雙機(jī)械密封，易于清洗，將泄漏降至*低，可24小時(shí)不停運(yùn)轉(zhuǎn)，特殊德國(guó)PDFE軸封，可以運(yùn)行10000小時(shí)，可選擇德國(guó)高品質(zhì)機(jī)械密封，在一般的情況下，我們的機(jī)械密封可以*大承受16bar 壓力，根據(jù)機(jī)械密封的壓力一般要高于密封腔體的壓力2-3bar ,這就決定我們的入口*大壓力可以達(dá)到12-13 bar .
產(chǎn)品效果：
國(guó)內(nèi)研磨機(jī)，粒徑細(xì)度有限，10微米以下較困難，重復(fù)性差，產(chǎn)品粒徑分布不均勻
IKN高剪切研磨機(jī) 可實(shí)現(xiàn)0.1-1微米的顆粒加工，粒徑分布均勻，納米級(jí)分散乳化粉碎
 
IKN管線式粉碎機(jī)與國(guó)內(nèi)粉碎機(jī)比較：
轉(zhuǎn)速和剪切力：
國(guó)內(nèi)粉碎機(jī)，3000/4700 RPM直聯(lián)電機(jī)的轉(zhuǎn)速?zèng)Q定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速
線速度：V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
作用力：F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
IKN高剪切粉碎機(jī)，9000/14000RPM通過皮帶加速
線速度：V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
作用力：F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
這是研磨粉碎的重要因素，相當(dāng)于后者是前者的4-5倍
設(shè)備設(shè)計(jì)構(gòu)造：
國(guó)內(nèi)粉碎機(jī)，臥室直聯(lián)結(jié)構(gòu)，運(yùn)行時(shí)間長(zhǎng)，容易造成軸的偏心，運(yùn)轉(zhuǎn)不正常，需要*的人員拆開內(nèi)部結(jié)構(gòu)更換。而且需要更換損害的乳化頭及軸
IKN粉碎機(jī)，立式分體結(jié)構(gòu)，運(yùn)行時(shí)間長(zhǎng)，不易造成軸的偏心，容易更換，而且只要更換相應(yīng)的皮帶，一般的人員可以操作。
密封：
國(guó)內(nèi)粉碎機(jī)，填料密封或骨架密封，單機(jī)械密封或軸封，泄漏故障率高，產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá)，造成馬達(dá)燒毀
IKN粉碎機(jī)，雙機(jī)械密封，易于清洗，將泄漏降至*低，可24小時(shí)不停運(yùn)轉(zhuǎn)，特殊德國(guó)PDFE軸封，可以運(yùn)行10000小時(shí)，可選擇德國(guó)高品質(zhì)機(jī)械密封，在一般的情況下，我們的機(jī)械密封可以*大承受16bar 壓力，根據(jù)機(jī)械密封的壓力一般要高于密封腔體的壓力2-3bar ,這就決定我們的入口*大壓力可以達(dá)到12-13 bar .
產(chǎn)品效果：
國(guó)內(nèi)粉碎機(jī)，粒徑細(xì)度有限，10微米以下較困難，重復(fù)性差，產(chǎn)品粒徑分布不均勻
IKN高剪切粉碎機(jī)，可實(shí)現(xiàn)0.1-1微米的顆粒加工，粒徑分布均勻，納米級(jí)分散乳化粉碎
 
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IKN納米膠體磨與國(guó)內(nèi)膠體磨的性能比較：

• 轉(zhuǎn)速和剪切速率：IKN納米膠體磨，可選擇德國(guó)機(jī)械密封，轉(zhuǎn)速可以達(dá)到15000轉(zhuǎn)F=23/0.7X1000=32857S-1F=40/0.7/X1000=57142S-1國(guó)內(nèi)膠體磨，可選擇機(jī)械密封一般3000轉(zhuǎn)，大約在14293-215440S-1通過轉(zhuǎn)速比較可知，這是乳粉碎研磨的重要因素，相當(dāng)于前者是后者的2-3倍

 

• 膠體磨頭和間距：IKN納米膠體磨，可以選擇六種不同的模塊頭，實(shí)現(xiàn)多種功能，如三級(jí)乳化模塊，超高速模塊，CM膠體模塊，CMO膠體模塊，批次粉液液混合模塊，連續(xù)粉液混合模塊。間距可調(diào)，可實(shí)現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工國(guó)內(nèi)膠體磨，只有一種模塊頭，粒徑細(xì)度有限，100微米以下較困難，重復(fù)性差
• 機(jī)械密封：IKN納米膠體磨，雙機(jī)械密封，易于清洗，將泄漏降至*低，可24小時(shí)不停運(yùn)轉(zhuǎn)國(guó)內(nèi)膠體磨，單機(jī)械密封或軸封，泄漏故障率高，產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá)，造成馬達(dá)燒毀

 
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定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。
②齒列的深度：從開始的2.7mm 到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。
③溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。
IKN管線式高剪切膠體磨與臥式膠體磨比較：
轉(zhuǎn)速和剪切力：
國(guó)內(nèi)膠體磨，3000/4700 RPM直聯(lián)電機(jī)的轉(zhuǎn)速?zèng)Q定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速
線速度：V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
作用力：F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
IKN高剪切膠體磨，9000/14000RPM通過皮帶加速
線速度：V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
作用力：F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
這是研磨粉碎的重要因素，相當(dāng)于后者是前者的4-5倍
設(shè)備設(shè)計(jì)構(gòu)造：
國(guó)內(nèi)膠體磨，臥室直聯(lián)結(jié)構(gòu)，運(yùn)行時(shí)間長(zhǎng)，容易造成軸的偏心，運(yùn)轉(zhuǎn)不正常，需要*的人員拆開內(nèi)部結(jié)構(gòu)更換。而且需要更換損害的乳化頭及軸
IKN高剪切膠體磨，立式分體結(jié)構(gòu)，運(yùn)行時(shí)間長(zhǎng)，不易造成軸的偏心，容易更換，而且只要更換相應(yīng)的皮帶，一般的人員可以操作。
密封：
國(guó)內(nèi)膠體磨，填料密封或骨架密封，單機(jī)械密封或軸封，泄漏故障率高，產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá)，造成馬達(dá)燒毀
IKN膠體磨，雙機(jī)械密封，易于清洗，將泄漏降至*低，可24小時(shí)不停運(yùn)轉(zhuǎn)，特殊德國(guó)PDFE軸封，可以運(yùn)行10000小時(shí)，可選擇德國(guó)高品質(zhì)機(jī)械密封，在一般的情況下，我們的機(jī)械密封可以*大承受16bar 壓力，根據(jù)機(jī)械密封的壓力一般要高于密封腔體的壓力2-3bar ,這就決定我們的入口*大壓力可以達(dá)到12-13 bar .
產(chǎn)品效果：
國(guó)內(nèi)膠體磨，粒徑細(xì)度有限，10微米以下較困難，重復(fù)性差，產(chǎn)品粒徑分布不均勻
IKN高剪切膠體磨，可實(shí)現(xiàn)0.1-1微米的顆粒加工，粒徑分布均勻，納米級(jí)分散乳化粉碎


二維材料研磨分散機(jī)，二維材料剝離設(shè)備，超高速研磨分散機(jī)，線速度66M/S分散機(jī)